A1000PC: 应用于3D基板的GLA超低反薄膜

GLA草状氧化铝，微结构表面陷光效应，相较于干涉AR镀膜，降低了整体镀膜厚度（时间），并有效减少大角度入射光的反射。

概述

GLA草状氧化铝，微结构表面陷光效应，相较于干涉AR镀膜，降低了整体镀膜厚度（时间），并有效减少大角度入射光的反射。

GLA草状氧化铝，微结构表面陷光效应，相较于干涉AR镀膜，降低了整体镀膜厚度（时间），并有效减少大角度入射光的反射。

ALDER-500PAS(A500PAS)是一种为了满足各种涂层研发及中型批量量产而进行优化设计的中型ALD装置。

A1000PC是面向于工业化大规模生产的原子层沉积系统，低温镀膜设计可以在各种3维基板上沉积高质量光学薄膜。

A800LS的小型化布局设计使得维护等操作在灰区进行，节省了洁净间占地面积。相应的维护操作更简便，消耗品使用更少，满足工业化所需的高重复性和高可靠性镀膜。

比特28wdA800TBS原子层沉积系统是专业应用于晶圆级光学领域的工业化批量式ALD，例如：光栅间隙填充，三维表面修饰，器件封装和沉积增透减反膜。